저밀도 고강도 PVD CVD Gr1 Ti 튜브 타겟

티타늄 튜브 대상 진공 코팅 대상 티타늄 Gr1 ASTM B861-06 a 133OD*125ID*840

코팅 타겟은 적절한 기술 조건에서 마그네트론 스퍼터링, 다중 아크 이온 도금 또는 기타 유형의 코팅 시스템에 의해 기판에 다양한 기능 필름을 형성하는 스퍼터링 소스입니다.간단히 말해서 표적물질은 고속 하전입자 폭격의 표적물질이다.고에너지 레이저 무기에 사용할 때 다른 출력 밀도, 다른 출력 파형 및 레이저의 다른 파장이 다른 목표와 상호 작용하면 다른 살상 및 파괴 효과가 생성됩니다.진공 코팅은 금속이나 비금속 재료를 고진공 상태로 가열하여 도금된 부품(금속, 반도체, 절연체)의 표면에서 증발 및 응축하여 피막 방식을 형성하는 것을 말합니다.진공 코팅 기술은 일반적으로 물리적 기상 증착(PVD) 기술과 화학 기상 증착(CVD) 기술의 두 가지 범주로 나뉩니다.물리기상증착기술은 진공상태에서 다양한 물리적 방법에 의해 기체화하여 원자와 분자로 또는 이온화하여 기판의 표면에 도금물질을 직접 증착하는 방법을 말한다.특징:
(1) 모든 종류의 코팅 기술은 가열 증발 또는 스퍼터링 공정에서 필름 재료가 많은 대기 가스 분자 충돌, 차단 및 간섭에 의해가 아닌 증기 분자의 이동에 의해 형성되고 제거되도록 특정 진공 환경이 필요합니다. 대기 중의 불순물의 역효과.
(2) 모든 종류의 코팅 기술에는 필름 재료를 기체로 기화시키기 위해 증발원 또는 타겟이 있어야 합니다.소스 또는 타겟의 지속적인 개선으로 인해 영화 제작 재료의 선택 범위가 크게 확장되었습니다.금속, 금속 합금, 금속간 화합물, 세라믹 또는 유기 재료 여부에 관계없이 모든 종류의 금속 및 유전체 필름을 찜할 수 있지만 다른 재료를 동시에 찜하여 다층 필름을 얻을 수도 있습니다.
(3) 증착 또는 스퍼터링 필름 제조 재료, 도금할 공작물로 필름을 형성하는 과정에서 필름 두께를 보다 정확하게 측정 및 제어하여 필름 두께의 균일성을 보장할 수 있습니다.

특징

1. 저밀도 및 고강도
2. 고객이 요구하는 도면에 따라 맞춤형
3. 강한 내식성
4. 강한 내열성
5. 저온 저항
6. 내열성