133mm*125mm*840mm 티타늄 이음새가 없는 관 표적 내식성

티타늄 관 대상 진공 코팅 대상 133OD*125ID*840 이음매 없는 관 ASTM B861-06 a

코팅 타겟은 적절한 기술 조건에서 마그네트론 스퍼터링, 다중 아크 이온 도금 또는 기타 유형의 코팅 시스템에 의해 기판에 다양한 기능 필름을 형성하는 스퍼터링 소스입니다.간단히 말해서 표적물질은 고속 하전입자 폭격의 표적물질이다.고에너지 레이저 무기에 사용할 때 다른 출력 밀도, 다른 출력 파형 및 레이저의 다른 파장이 다른 목표와 상호 작용하면 다른 살상 및 파괴 효과가 생성됩니다.예를 들어, 증발 마그네트론 스퍼터링 코팅은 가열 증발 코팅, 알루미늄 필름 등입니다. 다른 대상 재료(예: 알루미늄, 구리, 스테인리스 스틸, 티타늄, 니켈 대상 등)를 변경하면 다른 필름 시스템(예: 초경질 , 내마모성, 부식 방지 합금 필름 등)
최근 FPD(Flat Panel Display)는 CRT(Cathode Ray Tube)가 지배하는 컴퓨터 모니터 및 TV 시장에 큰 영향을 미치고 있으며, 이는 또한 ITO 타겟 재료의 기술 및 시장 수요를 주도할 것입니다.오늘날 두 종류의 iTO 타겟이 있습니다.하나는 인듐 산화물과 주석 산화물 분말을 나노미터 상태로 혼합하여 소결하는 것이고, 다른 하나는 인듐 주석 합금 타겟으로 소결하는 것입니다.ITO 필름은 인듐-주석 합금 타겟에 직류 반응성 스퍼터링으로 제조할 수 있지만 타겟 표면이 산화되고 스퍼터링 속도에 영향을 미치며 큰 크기의 금 타겟을 얻기가 어렵습니다.최근에는 L}IRF 반응성 스퍼터링 코팅을 사용하여 ITO 타겟 물질을 생산하기 위해 첫 번째 방법이 일반적으로 채택됩니다.빠른 증착 속도를 가지고 있습니다.그리고 필름의 두께, 높은 전도성, 필름의 우수한 일관성, 기판에 대한 강한 접착력 및 기타 장점을 정확하게 제어할 수 있습니다. l.그러나 인듐 산화물과 주석 산화물은 쉽게 소결되지 않기 때문에 타겟을 만드는 것은 어렵습니다.일반적으로 ZrO2, Bi2O3, CeO 등이 소결 첨가제로 사용되며, 이론치의 93%~98%의 밀도를 갖는 타겟 물질을 얻을 수 있다.이렇게 형성된 ITO 필름의 성능은 첨가제와 크게 관련이 있습니다.일본 과학자들은 Bizo를 첨가제로 사용했고 Bi2O3는 820Cr에서 녹고 L500 ℃를 초과하는 소결 온도의 일부가 휘발되어 액상 소결 조건에서 비교적 순수한 ITO 타겟을 얻을 수있었습니다.그리고 산화물 원료는 반드시 나노 입자가 아니므로 초기 공정을 단순화할 수 있습니다.Chuan과 같은 타겟을 사용하여 얻은 ITO 필름의 비저항은 8.1 x 10n-cm로 순수한 ITO 필름의 비저항에 가깝습니다.FPD와 전도성 유리의 크기는 상당히 뜨겁고 전도성 유리의 너비는 3133_에 달할 수도 있습니다.타겟의 활용률을 향상시키기 위해 원통형과 같은 다양한 모양의 ITO 타겟이 개발되었습니다.2000년에 국가발전계획위원회와 과학기술부는 ITO의 대규모 목표를 현재 발전 우선순위의 정보산업 핵심 분야에 대한 지침에 포함시켰습니다.

특징

1. 저밀도 및 고강도
2. 고객이 요구하는 도면에 따라 맞춤형
3. 강한 내식성
4. 강한 내열성
5. 저온 저항
6. 내열성